MC1000離子濺射儀
由日立高新技術公司自行設計制造，針對掃描電鏡的精細**需求而設計，適合微觀結構較復雜的樣品，尤
其適合于場發射掃描電鏡的高倍率觀測應用。
主要特點：
1. 操作方便且有記憶功能，首 創LCD觸摸屏控制技術，可存儲五種處理方案； 2. 通過磁場控制金屬顆粒的濺射噴鍍軌跡，從而使鍍層更均勻； 3. 通過選配測量單元可實現1nm至30nm的鍍層厚度控制。